Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FDPA | CAS 80220-63-9 同仁化学研究所

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20 機能性有機材料

FDPA

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FDPA | CAS 80220-63-9 同仁化学研究所

  • 機能性有機材料

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬

  • 製品コード
    F330  FDPA
  • CAS番号
    80220-63-9
  • 化学名
    1H,1H,2H,2H-Perfluoro-n-decylphosphonic acid
  • 分子式・分子量
    C10H6F17O3P=528.1
容 量 メーカー希望
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和光純薬
10 mg ¥16,100 346-91581
100 mg ¥44,700 342-91583
  • Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FDPA | CAS 80220-63-9 同仁化学研究所
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マニュアル

  • プロトコル Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FDPA | CAS 80220-63-9 同仁化学研究所 金属酸化物表面にホスホン酸 SAM を形成したい
    Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FDPA | CAS 80220-63-9 同仁化学研究所

技術情報

注意事項

・本製品を粉末の状態で取り出し使用する場合、性状の性質上、静電気等の要因で容器内に付着し、取り出しにくい場合があります。
・容器内に付着し、取り出せなかった粉末に関しては、使用する溶媒を容器に入れ、溶かし出して使用してください。

参考文献

参考文献を表示する

1) T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin, H. Terryn, "Study of the self-assembling of n-octylphosphonic acid layers on aluminum oxide", Langmuir, 2008, 24 (23), 13450.
2) P. Thissen, M. Valtiner, G. Grundmeier, "Stability of Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers on Amorphous and Single-Crystalline Aluminum Oxide Surfaces in Aqueous Solution", Langmuir, 2010, 26 (1), 156.
3) W. Gao, L. Reven, "Solid-state NMR-studies of self-assembled monolayers", Langmuir, 1995, 11 (6), 1860.
4) S. Marcinko, A. Y. Fadeev, "Hydrolytic Stability of Organic Monolayers Supported on TiO2 and ZrO2", Langmuir, 2004, 20 (6), 2270.
5) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood, E. S. Gawalt, " Cell attachment and spreading on metal implant materials", J. Mat. Sci. Eng. C, 2003, 23, 395.
6) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus, J. Schwartz, "Comparative properties of siloxane vs phosphonate monolayers on a key titanium alloy", Langmuir, 2005, 21 (1), 225. 
7) N. Adden, L. J. Gamble, D. G. Castner, A. Hoffmann, G. Gross, H. Menzel, "Phosphonic Acid Monolayers for Binding of Bioactive Molecules to Titanium Surfaces", Langmuir, 2006, 22, 8197.
8) E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch, M. F. Danisman, "Bonding self-assembled, compact organophosphonate monolayers to the native oxide surface of silicon", J. Am. Chem. Soc. 2003, 125 (51), 16074. 
9) M. Dubey, T. Weidner, L. J. Gamble, D. G. Castner, "Structure and Order of Phosphonic Acid-Based Self-Assembled Monolayers on Si(100)", Langmuir, 2010, 26 (18), 14747.
10) A. Vega, P. Thissen, Y. J. Chabal, "Environment-Controlled Tethering by Aggregation and Growth of Phosphonic Acid Monolayers on Silicon Oxide", Langmuir, 2012, 28, 8046.
11) P. Thissen, A. Vega, T. Peixoto, Y. J. Chabal, "Controlled, Low-Coverage Metal Oxide Activation of Silicon for Organic Functionalization: Unraveling the Phosphonate Bond", Langmuir, 2012, 28 (50), 17494.
12) J. T. Woodward, A. Ulman, D. K. Schwartz, "Self-assembled monolayer growth of octadecylphosphonic acid on mica", Langmuir, 1996, 12 (15), 3626.
13) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, "Formation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid on the netive oxide surface of SS316L", Langmuir, 2006, 22, 6469.
14) G. Zorn, R. Adadi, R. Brener, V. A. Yakovlev,| I. Gotman, E. Y. Gutmanas, C. N. Sukenik, "Tailoring the Surface of NiTi Alloy Using PIRAC Nitriding Followed by Anodization and Phosphonate Monolayer Deposition", Chem. Mater. 2008, 20, 5368.
15) R. Quinones and E. S. Gawalt, "Polystyrene formation on monolayer-modified nitinol effectively controls corrosion", Langmuir, 2008, 24, 10858.
16) S. C. D’Andrea and Al. Y. Fadeev, "Covalent surface modification of calcium hydroxyapatite using n-alkyl- and n-fluoroalkylphosphonic acids", Langmuir, 2003, 19, 7904.
17) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, "Surface functionalization of zinc oxide by carboxyalkylphosphonic acid self-assembled monolayers", Langmuir, 2010, 26(6), 4514.
18) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, "Stabilization of the work function of indium tin oxide using organic surface modifiers in organic light-emitting diodes", Appl. Phys. Lett., 2008, 93, 163308.
19) W. Ma, H. Wu, Y. Higaki, H. Otsuka, and A. Takahara, "A "non-sticky" Superhydrophobic Surface Prepared by Self-assembly of Fluoroalkyl Phosphonic Acid on a Hierarchically Micro/Nanostructured Alumina Gel film", Chem. Commun., 2012, 48, 6824.
20) W. Ma, Y. Higaki, H. Otsuka and A. Takahara, "Perfluoropolyether-infused Nano-texture: a Versatile Approach to Omniphobic Coatings with Low Hysteresis and High Transparency", Chem. Commun., 2013, 49, 597.

よくある質問

Q

ホスホン酸誘導体の溶解例を教えてください。

A

ホスホン酸誘導体の各溶媒への溶解性は以下の通りです。

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取扱条件

規格
性状: 本品は、白色粉末又は結晶性粉末である。
メチルアルコール溶状: 試験適合
NMRスペクトル: 試験適合
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関連製品

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20 機能性有機材料

FHPA

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  • 機能性有機材料

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬

  • 製品コード
    F340  FHPA
  • CAS番号
    503564-50-9
  • 化学名
    1H,1H,2H,2H-Perfluoro-n-hexylphosphonic acid
  • 分子式・分子量
    C6H6F9O3P=328.07
容 量 メーカー希望
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和光純薬
100 mg ¥34,500 343-91591
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  • プロトコル Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 FHPA | CAS 503564-50-9 同仁化学研究所 金属酸化物表面にホスホン酸 SAM を形成したい
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技術情報

注意事項

・本製品を粉末の状態で取り出し使用する場合、性状の性質上、静電気等の要因で容器内に付着し、取り出しにくい場合があります。
・容器内に付着し、取り出せなかった粉末に関しては、使用する溶媒を容器に入れ、溶かし出して使用してください。

参考文献

参考文献を表示する

1) T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin, H. Terryn, "Study of the self-assembling of n-octylphosphonic acid layers on aluminum oxide", Langmuir200824 (23), 13450.
2) P. Thissen, M. Valtiner, G. Grundmeier, "Stability of Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers on Amorphous and Single-Crystalline Aluminum Oxide Surfaces in Aqueous Solution", Langmuir201026 (1), 156.
3) W. Gao, L. Reven, "Solid-state NMR-studies of self-assembled monolayers", Langmuir199511 (6), 1860.
4) S. Marcinko, A. Y. Fadeev, "Hydrolytic Stability of Organic Monolayers Supported on TiO2 and ZrO2", Langmuir, 2004, 20 (6), 2270.
5) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood, E. S. Gawalt, " Cell attachment and spreading on metal implant materials", J. Mat. Sci. Eng. C200323, 395.
6) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus, J. Schwartz, "Comparative properties of siloxane vs phosphonate monolayers on a key titanium alloy", Langmuir200521 (1), 225. 
7) N. Adden, L. J. Gamble, D. G. Castner, A. Hoffmann, G. Gross, H. Menzel, "Phosphonic Acid Monolayers for Binding of Bioactive Molecules to Titanium Surfaces", Langmuir, 2006, 22, 8197.
8) E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch, M. F. Danisman, "Bonding self-assembled, compact organophosphonate monolayers to the native oxide surface of silicon", J. Am. Chem. Soc. 2003125 (51), 16074. 
9) M. Dubey, T. Weidner, L. J. Gamble, D. G. Castner, "Structure and Order of Phosphonic Acid-Based Self-Assembled Monolayers on Si(100)", Langmuir201026 (18), 14747.
10) A. Vega, P. Thissen, Y. J. Chabal, "Environment-Controlled Tethering by Aggregation and Growth of Phosphonic Acid Monolayers on Silicon Oxide", Langmuir, 201228, 8046.
11) P. Thissen, A. Vega, T. Peixoto, Y. J. Chabal, "Controlled, Low-Coverage Metal Oxide Activation of Silicon for Organic Functionalization: Unraveling the Phosphonate Bond", Langmuir201228 (50), 17494.
12) J. T. Woodward, A. Ulman, D. K. Schwartz, "Self-assembled monolayer growth of octadecylphosphonic acid on mica", Langmuir, 199612 (15), 3626.
13) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, "Formation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid on the netive oxide surface of SS316L", Langmuir200622, 6469.
14) G. Zorn, R. Adadi, R. Brener, V. A. Yakovlev,| I. Gotman, E. Y. Gutmanas, C. N. Sukenik, "Tailoring the Surface of NiTi Alloy Using PIRAC Nitriding Followed by Anodization and Phosphonate Monolayer Deposition", Chem. Mater. 2008, 20, 5368.
15) R. Quinones and E. S. Gawalt, "Polystyrene formation on monolayer-modified nitinol effectively controls corrosion", Langmuir200824, 10858.
16) S. C. D’Andrea and Al. Y. Fadeev, "Covalent surface modification of calcium hydroxyapatite using n-alkyl- and n-fluoroalkylphosphonic acids", Langmuir, 2003, 19, 7904.
17) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, "Surface functionalization of zinc oxide by carboxyalkylphosphonic acid self-assembled monolayers", Langmuir201026(6), 4514.
18) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, "Stabilization of the work function of indium tin oxide using organic surface modifiers in organic light-emitting diodes", Appl. Phys. Lett., 200893, 163308.
19) W. Ma, H. Wu, Y. Higaki, H. Otsuka, and A. Takahara, "A "non-sticky" Superhydrophobic Surface Prepared by Self-assembly of Fluoroalkyl Phosphonic Acid on a Hierarchically Micro/Nanostructured Alumina Gel film", Chem. Commun., 201248, 6824.
20) W. Ma, Y. Higaki, H. Otsuka and A. Takahara, "Perfluoropolyether-infused Nano-texture: a Versatile Approach to Omniphobic Coatings with Low Hysteresis and High Transparency", Chem. Commun., 201349, 597.

よくある質問

Q

ホスホン酸誘導体の溶解例を教えてください。

A

ホスホン酸誘導体の各溶媒への溶解性は以下の通りです。

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取扱条件

規格
性状: 本品は、白色粉末又は結晶性粉末である。
メチルアルコール溶状: 試験適合
NMRスペクトル: 試験適合
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関連製品

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 11-HUPA | CAS 83905-98-0 同仁化学研究所

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20 機能性有機材料

11-HUPA

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 11-HUPA | CAS 83905-98-0 同仁化学研究所

  • 機能性有機材料

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬

  • 製品コード
    H399  11-HUPA
  • CAS番号
    83905-98-0
  • 化学名
    11-Hydroxyundecylphosphonic acid
  • 分子式・分子量
    C11H25O4P=252.29
容 量 メーカー希望
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和光純薬
10 mg ¥13,900 342-91603
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  • ご購入方法
  • お問い合わせ

マニュアル

  • プロトコル Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 11-HUPA | CAS 83905-98-0 同仁化学研究所 金属酸化物表面にホスホン酸SAMを形成したい
    Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 11-HUPA | CAS 83905-98-0 同仁化学研究所

技術情報

注意事項

・本製品を粉末の状態で取り出し使用する場合、性状の性質上、静電気等の要因で容器内に付着し、取り出しにくい場合があります。
・容器内に付着し、取り出せなかった粉末に関しては、使用する溶媒を容器に入れ、溶かし出して使用してください。

参考文献

参考文献を表示する

1) T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin, H. Terryn, "Study of the self-assembling of n-octylphosphonic acid layers on aluminum oxide", Langmuir200824 (23), 13450.
2) P. Thissen, M. Valtiner, G. Grundmeier, "Stability of Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers on Amorphous and Single-Crystalline Aluminum Oxide Surfaces in Aqueous Solution", Langmuir201026 (1), 156.
3) W. Gao, L. Reven, "Solid-state NMR-studies of self-assembled monolayers", Langmuir199511 (6), 1860.
4) S. Marcinko, A. Y. Fadeev, "Hydrolytic Stability of Organic Monolayers Supported on TiO2 and ZrO2", Langmuir, 2004, 20 (6), 2270.
5) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood, E. S. Gawalt, " Cell attachment and spreading on metal implant materials", J. Mat. Sci. Eng. C200323, 395.
6) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus, J. Schwartz, "Comparative properties of siloxane vs phosphonate monolayers on a key titanium alloy", Langmuir200521 (1), 225. 
7) N. Adden, L. J. Gamble, D. G. Castner, A. Hoffmann, G. Gross, H. Menzel, "Phosphonic Acid Monolayers for Binding of Bioactive Molecules to Titanium Surfaces", Langmuir, 2006, 22, 8197.
8) E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch, M. F. Danisman, "Bonding self-assembled, compact organophosphonate monolayers to the native oxide surface of silicon", J. Am. Chem. Soc. 2003125 (51), 16074. 
9) M. Dubey, T. Weidner, L. J. Gamble, D. G. Castner, "Structure and Order of Phosphonic Acid-Based Self-Assembled Monolayers on Si(100)", Langmuir201026 (18), 14747.
10) A. Vega, P. Thissen, Y. J. Chabal, "Environment-Controlled Tethering by Aggregation and Growth of Phosphonic Acid Monolayers on Silicon Oxide", Langmuir, 201228, 8046.
11) P. Thissen, A. Vega, T. Peixoto, Y. J. Chabal, "Controlled, Low-Coverage Metal Oxide Activation of Silicon for Organic Functionalization: Unraveling the Phosphonate Bond", Langmuir201228 (50), 17494.
12) J. T. Woodward, A. Ulman, D. K. Schwartz, "Self-assembled monolayer growth of octadecylphosphonic acid on mica", Langmuir, 199612 (15), 3626.
13) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, "Formation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid on the netive oxide surface of SS316L", Langmuir200622, 6469.
14) G. Zorn, R. Adadi, R. Brener, V. A. Yakovlev,| I. Gotman, E. Y. Gutmanas, C. N. Sukenik, "Tailoring the Surface of NiTi Alloy Using PIRAC Nitriding Followed by Anodization and Phosphonate Monolayer Deposition", Chem. Mater. 2008, 20, 5368.
15) R. Quinones and E. S. Gawalt, "Polystyrene formation on monolayer-modified nitinol effectively controls corrosion", Langmuir200824, 10858.
16) S. C. D’Andrea and Al. Y. Fadeev, "Covalent surface modification of calcium hydroxyapatite using n-alkyl- and n-fluoroalkylphosphonic acids", Langmuir, 2003, 19, 7904.
17) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, "Surface functionalization of zinc oxide by carboxyalkylphosphonic acid self-assembled monolayers", Langmuir201026(6), 4514.
18) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, "Stabilization of the work function of indium tin oxide using organic surface modifiers in organic light-emitting diodes", Appl. Phys. Lett., 200893, 163308.
19) Jing Shang, Fang Cheng, Manish Dubey, Justin M. Kaplan, Meghana Rawal, Xi Jiang, David S. Newburg, Philip A. Sullivan, Rodrigo B. Andrade, and Daniel M. Ratner, "An Organophosphonate Strategy for Functionalizing Silicon Photonic Biosensors", Langmuir201228(6), 3338.

よくある質問

Q

ホスホン酸誘導体の溶解例を教えてください。

A

ホスホン酸誘導体の各溶媒への溶解性は以下の通りです。

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取扱条件

規格
性状: 本品は、白色~微黄色粉末である。
ジメチルスルホキシド溶状: 試験適合
NMRスペクトル: 試験適合
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関連製品

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS – 同仁化学研究所

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20 機能性有機材料

M-EG3-UPA

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  • 機能性有機材料

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬

  • 製品コード
    M457  M-EG3-UPA
  • CAS番号
  • 化学名
    11-{2-[2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}undecylphosphonic acid
  • 分子式・分子量
    C24H17FO6=420.39
容 量 メーカー希望
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富士フイルム
和光純薬
10 mg ¥17,200 343-91611
  • Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS - 同仁化学研究所
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マニュアル

  • プロトコル Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS - 同仁化学研究所 金属酸化物表面にホスホン酸 SAM を形成したい
    Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS - 同仁化学研究所

技術情報

注意事項

・本製品を粉末の状態で取り出し使用する場合、性状の性質上、静電気等の要因で容器内に付着し、取り出しにくい場合があります。
・容器内に付着し、取り出せなかった粉末に関しては、使用する溶媒を容器に入れ、溶かし出して使用してください。

参考文献

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参考文献

1) T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin, H. Terryn, "Study of the self-assembling of n-octylphosphonic acid layers on aluminum oxide", Langmuir, 2008, 24 (23), 13450.
2) P. Thissen, M. Valtiner, G. Grundmeier, "Stability of Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers on Amorphous and Single-Crystalline Aluminum Oxide Surfaces in Aqueous Solution", Langmuir, 2010, 26 (1), 156.
3) W. Gao, L. Reven, "Solid-state NMR-studies of self-assembled monolayers", Langmuir, 1995, 11 (6), 1860.
4) S. Marcinko, A. Y. Fadeev, "Hydrolytic Stability of Organic Monolayers Supported on TiO2 and ZrO2", Langmuir, 2004, 20 (6), 2270.
5) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood, E. S. Gawalt, " Cell attachment and spreading on metal implant materials", J. Mat. Sci. Eng. C, 2003, 23, 395.
6) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus, J. Schwartz, "Comparative properties of siloxane vs phosphonate monolayers on a key titanium alloy", Langmuir, 2005, 21 (1), 225.
7) N. Adden, L. J. Gamble, D. G. Castner, A. Hoffmann, G. Gross, H. Menzel, "Phosphonic Acid Monolayers for Binding of Bioactive Molecules to Titanium Surfaces", Langmuir, 2006, 22, 8197.
8) E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch, M. F. Danisman, "Bonding self-assembled, compact organophosphonate monolayers to the native oxide surface of silicon", J. Am. Chem. Soc. 2003, 125 (51), 16074.
9) M. Dubey, T. Weidner, L. J. Gamble, D. G. Castner, "Structure and Order of Phosphonic Acid-Based Self-Assembled Monolayers on Si(100)", Langmuir, 2010, 26 (18), 14747.
10) A. Vega, P. Thissen, Y. J. Chabal, "Environment-Controlled Tethering by Aggregation and Growth of Phosphonic Acid Monolayers on Silicon Oxide", Langmuir, 2012, 28, 8046.
11) P. Thissen, A. Vega, T. Peixoto, Y. J. Chabal, "Controlled, Low-Coverage Metal Oxide Activation of Silicon for Organic Functionalization: Unraveling the Phosphonate Bond", Langmuir, 2012, 28 (50), 17494.
12) J. T. Woodward, A. Ulman, D. K. Schwartz, "Self-assembled monolayer growth of octadecylphosphonic acid on mica", Langmuir, 1996, 12 (15), 3626.
13) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, "Formation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid on the netive oxide surface of SS316L", Langmuir, 2006, 22, 6469.
14) G. Zorn, R. Adadi, R. Brener, V. A. Yakovlev,| I. Gotman, E. Y. Gutmanas, C. N. Sukenik, "Tailoring the Surface of NiTi Alloy Using PIRAC Nitriding Followed by Anodization and Phosphonate Monolayer Deposition", Chem. Mater. 2008, 20, 5368.
15) R. Quinones and E. S. Gawalt, "Polystyrene formation on monolayer-modified nitinol effectively controls corrosion", Langmuir, 2008, 24, 10858.
16) S. C. D’Andrea and Al. Y. Fadeev, "Covalent surface modification of calcium hydroxyapatite using n-alkyl- and n-fluoroalkylphosphonic acids", Langmuir, 2003, 19, 7904.
17) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, "Surface functionalization of zinc oxide by carboxyalkylphosphonic acid self-assembled monolayers", Langmuir, 2010, 26(6), 4514.
18) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, "Stabilization of the work function of indium tin oxide using organic surface modifiers in organic light-emitting diodes", Appl. Phys. Lett., 2008, 93, 163308.

よくある質問

Q

ホスホン酸誘導体の溶解例を教えてください。

A

 ホスホン酸誘導体の各溶媒への溶解性は以下の通りです。

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS - 同仁化学研究所

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取扱条件

規格
性状: 本品は、白色~微黄色粉末である。
クロロホルム溶状: 試験適合
NMRスペクトル: 試験適合
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Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 M-EG3-UPA | CAS - 同仁化学研究所

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20 機能性有機材料

ODPA

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所

  • 機能性有機材料

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬

  • 製品コード
    O407  ODPA
  • CAS番号
    4724-47-4
  • 化学名
    Octadecylphosphonic acid
  • 分子式・分子量
    C18H39O3P=334.47
容 量 メーカー希望
小売価格
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和光純薬
10 mg ¥13,900 347-91631
100 mg ¥37,400 343-91633
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  • プロトコル Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所 金属酸化物表面にホスホン酸 SAM を形成したい
    Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所

技術情報

注意事項

・本製品を粉末の状態で取り出し使用する場合、性状の性質上、静電気等の要因で容器内に付着し、取り出しにくい場合があります。
・容器内に付着し、取り出せなかった粉末に関しては、使用する溶媒を容器に入れ、溶かし出して使用してください。

参考文献

参考文献を表示する

1) T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin, H. Terryn, "Study of the self-assembling of n-octylphosphonic acid layers on aluminum oxide", Langmuir, 2008, 24 (23), 13450.
2) P. Thissen, M. Valtiner, G. Grundmeier, "Stability of Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers on Amorphous and Single-Crystalline Aluminum Oxide Surfaces in Aqueous Solution", Langmuir, 2010, 26 (1), 156.
3) W. Gao, L. Reven, "Solid-state NMR-studies of self-assembled monolayers", Langmuir, 1995, 11 (6), 1860.
4) S. Marcinko, A. Y. Fadeev, "Hydrolytic Stability of Organic Monolayers Supported on TiO2 and ZrO2", Langmuir, 2004, 20 (6), 2270.
5) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood, E. S. Gawalt, " Cell attachment and spreading on metal implant materials", J. Mat. Sci. Eng. C, 2003, 23, 395.
6) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus, J. Schwartz, "Comparative properties of siloxane vs phosphonate monolayers on a key titanium alloy", Langmuir, 2005, 21 (1), 225. 
7) N. Adden, L. J. Gamble, D. G. Castner, A. Hoffmann, G. Gross, H. Menzel, "Phosphonic Acid Monolayers for Binding of Bioactive Molecules to Titanium Surfaces", Langmuir, 2006, 22, 8197.
8) E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch, M. F. Danisman, "Bonding self-assembled, compact organophosphonate monolayers to the native oxide surface of silicon", J. Am. Chem. Soc. 2003, 125 (51), 16074. 
9) M. Dubey, T. Weidner, L. J. Gamble, D. G. Castner, "Structure and Order of Phosphonic Acid-Based Self-Assembled Monolayers on Si(100)", Langmuir, 2010, 26 (18), 14747.
10) A. Vega, P. Thissen, Y. J. Chabal, "Environment-Controlled Tethering by Aggregation and Growth of Phosphonic Acid Monolayers on Silicon Oxide", Langmuir, 2012, 28, 8046.
11) P. Thissen, A. Vega, T. Peixoto, Y. J. Chabal, "Controlled, Low-Coverage Metal Oxide Activation of Silicon for Organic Functionalization: Unraveling the Phosphonate Bond", Langmuir, 2012, 28 (50), 17494.
12) J. T. Woodward, A. Ulman, D. K. Schwartz, "Self-assembled monolayer growth of octadecylphosphonic acid on mica", Langmuir, 1996, 12 (15), 3626.
13) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, "Formation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid on the netive oxide surface of SS316L", Langmuir, 2006, 22, 6469.
14) G. Zorn, R. Adadi, R. Brener, V. A. Yakovlev,| I. Gotman, E. Y. Gutmanas, C. N. Sukenik, "Tailoring the Surface of NiTi Alloy Using PIRAC Nitriding Followed by Anodization and Phosphonate Monolayer Deposition", Chem. Mater. 2008, 20, 5368.
15) R. Quinones and E. S. Gawalt, "Polystyrene formation on monolayer-modified nitinol effectively controls corrosion", Langmuir, 2008, 24, 10858.
16) S. C. D’Andrea and Al. Y. Fadeev, "Covalent surface modification of calcium hydroxyapatite using n-alkyl- and n-fluoroalkylphosphonic acids", Langmuir, 2003, 19, 7904.
17) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, "Surface functionalization of zinc oxide by carboxyalkylphosphonic acid self-assembled monolayers", Langmuir, 2010, 26(6), 4514.
18) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, "Stabilization of the work function of indium tin oxide using organic surface modifiers in organic light-emitting diodes", Appl. Phys. Lett., 2008, 93, 163308.
19) H. Klauk, U. Zschieschang, J. Pflaum, M. Halik, "Ultralow-power organic complementary circuits", Nature, 2007, 445, 745.
20) T. Sekitani, Y. Noguchi, U. Zschieschang, H. Klauk, T. Someya, "Organic transistors manufactured using inkjet technology with subfemtoliter accuracy", Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 2008, 105, 4976.

よくある質問

Q

ホスホン酸誘導体の溶解例を教えてください。

A

ホスホン酸誘導体の各溶媒への溶解性は以下の通りです。

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所

Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所 Self Assembled Monolayer(SAM)研究用試薬 ODPA | CAS 4724-47-4 同仁化学研究所

取扱条件

規格
性状: 本品は、白色~微黄色粉末又は結晶性粉末である。
テトラヒドロフラン溶状: 試験適合
NMRスペクトル: 試験適合
取扱条件
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